당사는 2001년 설립되어 2002년 자체 연구소를 보유한 후, 현재까지 기존의 블랭크 마스크의 특성 및
구조 개선뿐만 아니라 차세대 블랭크 마스크 개발을 위한 꾸준한 노력을 진행하고 있습니다. 특히 현
재의 90 nm 이하 CD를 가지는 반도체용 포토마스크 제조공정은 기존의 공정 프로세서의 개선 뿐만
아니라 그 원재료인 블랭크 마스크의 특성이 점점 중요해 지고 있는 상황입니다.

반면, FPD용 블랭크 마스크의 경우 Size의 증가에 따라 원재료의 원가절감을 위한 새로운 물질 및 구
조를 가지는 블랭크 마스크가 끊임없이 요구되고 있습니다.

이러한 상황에 대해 당사의 R&D는 단기적으로는 생산제품 특성 향상을 위한 연구개발부터 장기적으
로는 차세대 블랭크 마스크에 대한 연구가 지속적으로 이루어지고 있습니다. 특히, R&D는 기술 및 연
구능력을 인정받아 현재까지 다양한 국책과제를 성공적으로 수행 및 수행중에 있으며, 국내외 블랭크
마스크에 대한 지적재산권을 확보하였습니다.