리소그래피(Lithography) 기술의 핵심 부품소재인 포토마스크의 원재료로서 패턴이 형성되기 전의
마스크를 블랭크 마스크라 합니다.

블랭크 마스크는 투명 기판위에 금속막과 레지스트가 형성된 구조로 이루어져 있으며, 이를 이용
하여 노광, 식각, 검사, 수리와 같은 일련의 패턴 형성과정을 통해 포토마스크가 완성됩니다.

이러한 블랭크 마스크는 DRAM과 같은 반도체 Memory 소자 제조를 위한 반도체용 블랭크 마스크
와 TFT-LCD (박막 트랜지스터 액정표시장치), Color Filter등과 Display Panel 제조를 위한 Flat Panel
Display (FPD)용 블랭크 마스크
로 구분할 수 있습니다.

 

반도체용 블랭크 마스크

반도체용 블랭크 마스크는 DRAM과 같이 한정된 크기내에서 회로의 고집적화를 위해 일반적으로 수백 ~
수십나노 크기의 패턴을 갖는 포토마스크의 원재료로서 사용됩니다. 따라서, 반도체용 블랭크 마스크는
해상도 (Resolution) 향상을 위해 기판, 금속막 및 레지스트막 특성이 중요한 요소로 작용되며, 또한
구현하고자 하는 패턴 크기가 미세함으로 인해 Particle과 같은 작은 결함 (Defect)에도 아주 엄격한
SPEC.이 요구되고 있습니다.

일반적으로 반도체용 블랭크 마스크의 구조는 가로 x 세로 x 두께가 6 x 6 x 0.25 inch인 석영기판위에
수십 ~ 수백나노의 두께를 가지는 금속막의 차광막과 반사방지막이 증착 된 후 그 위에 레지스트막이
형성된 구조를 가집니다.

[ 반도체용 블랭크 마스크 구조 ]
[ 반도체용 포토 마스크 ]

이러한 반도체용 블랭크 마스크를 이용하여 노광, 현상, 식각, 세정 및 검사와 같은 일련의 포토마스크
제조 공정을 통한 포토마스크 제조 후 반도체 제조 공정을 통해 대량의 반도체 소자가 제조되며, 이를
통해 DRAM, Flash Memory 및 CPU와 같은 반도체 제품이 제조되게 됩니다.

따라서, 고품질의 반도체 소자 제조를 위해서는 그의 원천적인 재료가 되는 블랭크 마스크의 중요성이
점점 높아지고 있는 상황입니다.

 

FPD용 블랭크 마스크

FPD용 블랭크 마스크는 TFT-LCD와 같은 Display 액정 소자 제조를 위한 포토마스크의 원재료로서,
최종 제품의 크기에 따라 반도체용 블랭크 마스크의 한정된 크기와는 달리 다양한 크기를 가지고 있습
니다.

[ FPD용 블랭크 마스크 구조 ]
[ FPD용 포토 마스크 ]

FPD용 블랭크 마스크는 해마다 대형화되는 평면 TV를 중심으로 점점 발전해 왔으며, 1세대의 330 x
450 Size에서 지금은 1220 x 1440 Size의 8세대 크기까지 발전해 오고 있습니다. 이러한 크기 발전은
최종 제품의 크기가 커질수록, 상대적으로 많은 Panel이 필요하게 되며 이때, 원가 절감 및 생산효율
성 증대를 위해서 더 큰 Size의 FPD용 포토마스크 및 블랭크 마스크가 필요하게 됩니다. 따라서, FPD
용 블랭크 마스크는 상대적으로 반도체용 블랭크 마스크보다 Size가 큰 관계로 대형 블랭크 마스크라
고도 합니다.

이러한 FPD용 블랭크 마스크를 통해 제작된 포토마스크를 이용하여 네비게이션, 컴퓨터 모니터, TV와
같은 다양한 크기의 Display용 Panel 제작이 가능하게 됩니다.