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사업분야 및 R&D

R&D

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연구소 소개

본 연구소는 2003년부터 반도체 및 디스플레이용 블랭크마스크
개발 및 국산화에 성공하였습니다.
향후 나아가 이제는 최첨단 nano-technology 연구를 통하여
반도체 및 디스플레이 기술을 초일류로 도약할 것입니다.

설립일 2003년 1월 9일
연구소장 김용대
연구원 62명 (총 인원의 22%)
연구 실적 (최근 3년간) - 공동기술/개발실적: 17건 (공정 및 신제품 개발)
- 개발 : 삼성전자, Sk하이닉스, SDC, PCL 등
R&D Network - 한양대, 포항공대, 경북대, 부산대, 영남대, DIGIST, UNIST 등
- 연구기관 : ETRI, NPAC, 나노팹, 포항가속기연구소 등
주요현황 - 강소기업 100선정 (중소벤처기업부)
- 중소기업대상 (대구시)
- 청년친화 강소기업 지정 (고용노동부)
- 첨단기술기업 지정 (미래창조과학부)
- 첨단기술제품 인증 (산업통상자원부)
- 월드클래스 300 선정
- 월드스타기업 선정 (대구시)
- 대한민국 10대 신기술상 수사
- 우수기술제조연구센터(ATC) 지정
- 세계일류상품 및 생산기업 인증

국내 출원    241

국내 등록    104

해외 출원    99

해외 등록    107

연구 내용

반도체용 블랭크 마스크

본 연구소는 바이너리 블랭크 마스크뿐만 아니라, 최첨단의 위상반전 블랭크 마스크, 하드마스크용 블랭크 마스크에 대한 연구를 진행하고 있습니다.

주요 연구 내용
- 바이너리 블랭크 마스크
- KrF, ArF 위상반전 블랭크 마스크
- 하드마스크용 블랭크 마스크
- 극자외선용 블랭크 마스크
- 나노임프린트용 블랭크 마스크

디스플레이용 블랭크 마스크

디스플레이 분야에서 10G 대면적 블랭크 마스크부터 TM, PSM 블랭크 마스크등 차세대 디스플레이용 블랭크 마스크에 대한 연구를 진행하고 있습니다.

주요 연구 내용
- 바이너리 블랭크 마스크
- 투과변조 블랭크 마스크
- 위상반전 블랭크 마스크
- 다중 투과율 변조 블랭크 마스크