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The World Class Blank Mask Supplier 에스앤에스텍은 끊임없는 기술 혁신을 통해 지속 가능한 성장 달성으로 이어갑니다.

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사업분야

반도체용 블랭크 마스트

반도체용 블랭크 마스크는 DRAM과 같이 한정된 크기내에서 회로의 고집적화를 위해 일반적으로 수백 ~ 수십나노 크기의 패턴을 갖는 포토마스트의 원재료로서 사용됩니다.
해상도(Resolution) 향상을 위해 기판, 금속막 및 레지스트막 특성이 중요한 요소로 작용되며, 또한 구현하고자 하는 패턴 크기와 미세함으로 인해 Particle과 같은 작은 결함(Defect)에도 아주 엄격한 SPEC이 요구되고 있습니다.

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FPD용 블랭크 마스트

FPD용 블랭크 마스크는 TFT-LCD와 같은 Display 액정 소자 제조를 위한 포토마스크의 원재료로서, 최종 제품의 크기에 따라 반도체용 블랭크 마스크의 한정된 크기와는 달리 다양한 크기를 가지고 있습니다.
FPD용 블랭크 마스크는 상대적으로 반도체용 블랭크 마스크보다 Size가 큰 관계로 대형 블랭크 마스크라도 합니다. 이러한 FPD용 블랭크 마스크를 통해 제작된 포토마스크를 이용하여 스마트폰, 태블릿 pc, 컴퓨터 모니터, TV와 같은 다양한 크기의 Display용 Panel 제작이 가능하게 됩니다.

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회사소개

인사말 2001년 창립한 에스앤에스텍은 Blank Mask를 개발, 공급하는 회사로서 향후 이 분야에서 한국 및 전세계적으로 대표하는 중견기업으로서 성장해 나갈 것입니다. VIEW +

경영철학 및 비전 The World No.1 Blank Mask Leader
끊임없는 기술 혁신을 통해 지속 가능한 성장 달성과 동반성장을 구현하고 지역 사회에 이바지 하는 상생 추구합니다.
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R & D 지속적인 연구개발 및 투자를 통해, 최첨단의 반도체 및 디스플레이용 블랭크 마스크 개발을 진행하고 있습니다. VIEW +

I R 에스앤에스텍의 재무정보, 주가정보, 공시정보, 전자공고 및 규정, 보도자료를 알려드립니다. VIEW +

소식

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