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에스앤에스텍은 반도체와 디스플레이 제작 공정 중에 핵심 원재료인 블랭크마스크를 최초로 개발 생산하기 위해 2001년에 설립된 회사입니다.

반도체 및 디스플레이 공정의 미세화와 고도화 추세에 따라 블랭크마스크의 중요성이 더욱 부각되었고, 이를 선도하기 위해 우리는 과감한 R&D 투자, 특허 출원, 등록 등으로 고부가가치 제품 개발에 집중해왔습니다. 그 결과, 에스앤에스텍은 이제 세계 최고 수준의 블랭크마스크를 생산하는 글로벌 대표 기업으로 자리매김했습니다.

최근 반도체 미세공정에 있어 극자외선(EUV) 노광공정은 기술 발전의 핵심으로 부상하고 있습니다. 이에 따라 에스앤에스텍은 EUV 공정 소재 분야에서의 기술 리더십 확보를 목표로 연구개발 역량을 집중하고 있으며, 세계 반도체 산업의 미래를 이끄는 획기적인 솔루션을 제시하기 위해 노력하고 있습니다. 특히 EUV 전용 Blankmask, Pellicle 개발을 통해 미세공정 난이도를 극복하고 고객사의 기술 경쟁력을 높이는데 기여하고자 합니다.

앞으로도 에스앤에스텍은 지금까지의 성과에 안주하지 않고, 국가 전략 기술의 발전에 기여하는 것은 물론, 전 세계적으로 다양한 고객과 시장의 요구에 부응하는 혁신적인 기업이 되기 위해 최선을 다하겠습니다.

뿐만 아니라, 고객, 협력사, 지역사회와 함께 성장하고 발전하며 환경적ㆍ사회적ㆍ윤리적 책임을 다하는 지속 가능한 경영을 실현해 나가겠습니다.

상생과 도전으로 더 큰 미래를 열어가는 에스앤에스텍의 여정에 여러분의 따뜻한 관심과 응원을 부탁드립니다.

감사합니다.