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회사소개 The World Class Blank Mask Supplier

사업분야

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블랭크 마스크
(주)에스앤에스텍은 반도체 및 디스플레이 제조 공정에 필수적인 포토 마스크의 핵심 원재료인 블랭크 마스크 국내 최초로 국산화에 성공한 기업입니다.

반도체용
반도체용 블랭크 마스크는 DRAM과 같이 한정된 크기내에서 회로의 고집적화를 위해 일반적으로 수백 ~ 수십나노 크기의 패턴을 갖는 포토마스트의 원재료로서 사용됩니다.
해상도(Resolution) 향상을 위해 기판, 금속막 및 레지스트막 특성이 중요한 요소로 작용되며, 또한 구현하고자 하는 패턴 크기와 미세함으로 인해 Particle과 같은 작은 결함(Defect)에도 아주 엄격한 SPEC이 요구되고 있습니다.
디스플레이용
FPD용 블랭크 마스크는 TFT-LCD와 같은 Display 액정 소자 제조를 위한 포토마스크의 원재료로서, 최종 제품의 크기에 따라 반도체용 블랭크 마스크의 한정된 크기와는 달리 다양한 크기를 가지고 있습니다.
FPD용 블랭크 마스크는 상대적으로 반도체용 블랭크 마스크보다 Size가 큰 관계로 대형 블랭크 마스크라도 합니다. 이러한 FPD용 블랭크 마스크를 통해 제작된 포토마스크를 이용하여 스마트폰, 태블릿 pc, 컴퓨터 모니터, TV와 같은 다양한 크기의 Display용 Panel 제작이 가능하게 됩니다.

현 보유기술 개요

제품별제품기술 구분비고
반도체용 바이너리 블랭크 마스크 기술 (Binary Blank Mask)  
위상시프트 블랭크 마스크 기술 (Phase Shift Blank Mask) High-end 기술
하드마스크용 블랭크 마스크 기술 (Hardmask Blank Mask) High-end 기술
디스플레이용 바이너리 블랭크 마스크 기술 (Binary Blank Mask)  
하프톤 블랭크 마스크 기술 (Half-tone Blank Mask) High-end 기술
위상시프트 블랭크 마스크 기술 (Phase Shift Blank Mask) High-end 기술