㈜에스앤에스텍 채용공고

 

당사는 2001년 창립 이래 Blank Mask를 개발, 공급하는 회사로서 전 임직원 모두가 노력한 결과 현재 세계 최고 수준의 Blank Mask를 생산하는 기업으로 성장하였습니다.

이에 끊임없이 도전하고 시장 변화를 선도하는 글로벌 리더로서의 자질을 갖춘 우수한 인재를 모집하고 있으니 많은 지원 바랍니다.

 

1. 모집 요강

채용 부문	업무 및 자격요건	채용 인원	비 고
연구개발 (EUV / Optical Blankmask)	1) 학력 : 대졸 이상 (석,박사 및 경력자 우대) 2) 전공 : 물리, 화학, 화공, 재료공학, 반도체 공학, 전자공학 등 이과계열 3) 우대사항 - 세정 공정 경험자 (Wafer, Photomask) - 세정장치 경험자 - Sputter 공정 경험자 - Sputter H/W 경험자 (Particle 개선 관련 설계) - Photomask 또는 Wafer etch 공정 경험자 (Process)	0명
연구개발 (EUV Pellicle)	1) 학력 : 석,박사 및 경력자 2) 전공 : 구조해석, 박막공학, 광학공학 3) 우대사항 - MEMS 공정 경험자 - 나노 박막 관련 전공자 - 나노 물질 관련 전공자 - 광학 관련 전공자	0명
생산직	1) 학력 : 고졸 이상 2) 교대근무 가능자 (3조 2교대) 3) 방진복 근무 경력자, 인근 거주자 우대	0명

 

2. 채용부문별 세부사항

 1) 연구개발

- 급     여 : 당사 내부규정에 따름

- 근무시간 : 08:30 ~ 17:30

- 근무형태 : 주 40시간

 

2) 생산직

- 급     여 : 당사 내부규정에 따름

- 근무시간 : 주간(08:30 ~ 20:30) / 야간(20:30 ~ 08:30)

- 근무형태 : 3조 2교대 근무

 

3. 제출 서류

- 필수사항 : 이력서, 자기소개서, 최종학교 졸업증명서

 ※ 지원분야 반드시 표기 :  연구개발(EUV / Optical Blankmask) / 연구개발(EUV Pellicle) / 생산직

 ※ 성적증명서, 졸업증명서, 경력증명서 등 첨부자료는 이력서 양식에 삽입하여 제출할 것

   (별도의 첨부파일로 제출 시 인증안함)

- 선택사항 : 자격증 사본, 어학성적증명서, 경력증명서 (경력자의 경우)

 ※ 자사양식 외 이력서는 접수를 받지 않습니다.

 

4. 제출 방법

- 이 메 일 : insa@snstech.co.kr

- 우    편 : (42714) 대구광역시 달서구 호산동로 42 ㈜에스앤에스텍 채용담당자

 

5. 전형 절차

- 서류전형 → 서류 합격자 발표(개별통보) → 1차면접 → 2차면접 → 최종 선발

- 접수기간 : 2020. 09. 27(일)

* 상기 일정은 내부 사정에 따라 변경될 수 있습니다.