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¡²S&S PEOPLE¡³
1. Àü¹®ÀÎ Professional
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2. Çõ½ÅÀÎ Innovation
ȸ»ç º¯È¿Í Çõ½ÅÀ» ÁÖµµÇÏ´Â
ÀÎÀç
3. µµ´ö¼º Morality
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Àåºñ±â¼ú |
¡á ´ã´ç¾÷¹« - FPD Blankmask Á¦Á¶¿ë Àåºñ(Coating, Cleaning, Sputter, MI) °ü¸® ¡á ÀÚ°Ý¿ä°Ç - Çз : ÇлçÀÌ»ó - Àü°ø : ¹ÝµµÃ¼, ÀüÀÚ µî ÀÌ°ø°è¿ ¡á ¿ì´ë»çÇ× - ¹ÝµµÃ¼ °ü·Ã ¾÷Á¾ À¯°æÇèÀÚ |
¿¬±¸ Part 1 |
¡á ´ã´ç¾÷¹« - EUV Blankmask °³¹ß ¡á ÀÚ°Ý¿ä°Ç - Çз : Çлç ÀÌ»ó(¼®/¹Ú»ç
¿ì´ë) - Àü°ø : ¹ÝµµÃ¼, ¹Ú¸·±¤ÇÐ, Àç·á, ¹°¸®, ÈÇÐ, ÀüÀÚ°øÇÐ
µî - °æ·Â : 4³âÀÌ»ó(Blankmask, Photomask, Wafer À¯°æÇèÀÚ) ¡á ¿ì´ë»çÇ× - ¹Ú¸· ±¤ÇÐ À¯°æÇè ¼³°èÀÚ - Sputter, IBD Àåºñ °ü·Ã À¯°æÇèÀÚ |
¿¬±¸ Part 2 |
¡á ´ã´ç¾÷¹« - CNT pellicle °³¹ß ¡á ÀÚ°Ý¿ä°Ç - Çз : ÇлçÀÌ»ó(¼®/¹Ú ¿ì´ë) - Àü°ø : ¹°¸®, ÈÇÐ, Àç·á
µî ÀÌ°ø°è¿ - °æ·Â : ½ÅÀÔ/°æ·Â ¡á ¿ì´ë»çÇ× - ALD, CVD µî ³ª³ë¹Ú¸· °³¹ß À¯°æÇèÀÚ - CNT,
Graphene µî ³ª³ë¼ÒÀç ¿¬±¸ À¯°æÇèÀÚ -
MEMS °øÁ¤ À¯°æÇèÀÚ |
EUV Part 1 |
¡á ´ã´ç¾÷¹« - Ion
Beam Deposition Multi-layer °³¹ß ¹× defect °³¼± - Metrology ¹× inspection ºÐ¼® ¡á ÀÚ°Ý¿ä°Ç - Çз : Çлç ÀÌ»ó - Àü°ø : ÀÌ°ø°è - °æ·Â : ½ÅÀÔ/°æ·Â ¡á ¿ì´ë»çÇ× - IBD À¯°æÇè ¹× Target °ü·Ã ¾÷¹« Á¾»çÀÚ - Inspection °ü·Ã ¾÷¹« Á¾»çÀÚ ex) lasertec or KLA - ÁõÂø °ü·Ã ±³À° À̼öÀÚ / ºÐ¼® ¶Ç´Â metrology
±³À° À̼öÀÚ |
EUV Part 2 |
¡á ´ã´ç¾÷¹« - EUV Pellicle Frame °³¹ß / °³¼± / Æò°¡ µî - EUV
Pellicle Frame + Pellicle Membrane assembly µî Àåºñ »ç¿ë -
Pellicle °øÁ¤ ÀϺΠº´Çü ÁøÇà ¡á ÀÚ°Ý¿ä°Ç - Çз : Çлç ÀÌ»ó - Àü°ø : ¹°¸®, °øÇÐ µî - °æ·Â : ½ÅÀÔ/°æ·Â ¡á ¿ì´ë»çÇ× - Frame, Pellicle¿¡ ´ëÇÑ ÀÌÇØ, °æÇèÀÚ - putter
/ CVD / (Wet) Etching¿¡ ´ëÇÑ ÀÌÇØ, °æÇèÀÚ |
¡²±Ù¹«Á¶°Ç¡³
1. ±Ù¹«ÇüÅ : Á¤±ÔÁ÷ (¼ö½À 3°³¿ù)
2. ±Ù¹«½Ã°£ : 08:30 ~ 17:30 (ÈްԽð£ Æ÷ÇÔ)
3. ±Ù¹«Áö¿ª : ´ë±¸»ç¾÷Àå(´ë±¸ ´Þ¼±¸) ¶Ç´Â ¿ëÀλç¾÷Àå(¿ëÀΠóÀα¸)
4. ±Þ¿©¼öÁØ : ȸ»ç ³»±Ô
¡²ÀüÇüÀýÂ÷¡³
- ¼·ùÀüÇü ¡æ ¼·ù ÇÕ°ÝÀÚ ¹ßÇ¥(°³º°Å뺸) ¡æ ½Ç¹«Áø ¸éÁ¢ ¡æ ÀÓ¿ø ¸éÁ¢ ¡æ ´ëÇ¥ÀÌ»ç ¸éÁ¢ ¡æ °Ç°°ËÁø ¡æ ÃÖÁ¾¼±¹ß
¡²Á¦Ãâ¼·ù¡³
- ÀÔ»çÁö¿ø¼, Á¹¾÷Áõ¸í¼, ¼ºÀûÁõ¸í¼, ¾îÇмºÀûÁõ¸í¼, °æ·ÂÁõ¸í¼(°í¿ëº¸ÇèÀڰݳ»¿ª¼)
¡Ø Áö¿øºÐ¾ß ¹Ýµå½Ã Ç¥±â : ¿¹½Ã)±¸¸Å / ¿¬±¸ Part1 / EUV Part 2
¡Ø Á¹¾÷Áõ¸í¼, ¼ºÀûÁõ¸í¼, °æ·ÂÁõ¸í¼ µî ÷ºÎÀÚ·á´Â Áö¿ø¼ ¾ç½Ä¿¡ »ðÀÔÇÏ¿© Á¦ÃâÇÏ¿© Áֽñ⠹ٶø´Ï´Ù.
¡Ø ÀÚ»ç¾ç½Ä ¿Ü À̷¼´Â Á¢¼ö¸¦ ¹ÞÁö ¾Ê½À´Ï´Ù.
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- À̸ÞÀÏ Á¢¼ö : insa@snstech.co.kr
- Á¢¼ö¸¶°¨ : 2025. 02. 02(ÀÏ)
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1. ÀÔ»çÁö¿ø ¼·ù¿¡¼ ÇãÀ§»ç½ÇÀÌ ¹ß°ßµÉ °æ¿ì¿¡´Â ä¿ëÈ®Á¤ÀÌ Ãë¼ÒµÉ ¼ö ÀÖ½À´Ï´Ù.
2. ±¸Á÷ÀÚÀÇ Ã¤¿ë¼·ùÀÇ ¹Ýȯû±¸ ¹× °ü·Ã»çÇ×Àº ä¿ëÀýÂ÷ÀÇ °øÁ¤ÈÀÇ ¹ý·ü ¹× ½ÃÇà·É ±âÁØ¿¡ µû¸¨´Ï´Ù.