본문 바로가기 주메뉴 바로가기

R&D The World Class Blank Mask Supplier

연구 내용

HOME > R&D > 연구 내용

반도체용 블랭크 마스크

본 연구소는 바이너리 블랭크 마스크뿐만 아니라, 최첨단의 위상반전 블랭크 마스크, 하드마스크용 블랭크 마스크에 대한 연구를 진행하고 있습니다.

주요 연구 내용
- 바이너리 블랭크 마스크
- KrF, ArF 위상반전 블랭크 마스크
- 하드마스크용 블랭크 마스크
- 극자외선용 블랭크 마스크
- 나노임프린트용 블랭크 마스크

디스플레이용 블랭크 마스크

디스플레이 분야에서 10G 대면적 블랭크 마스크부터 TM, PSM 블랭크 마스크등 차세대 디스플레이용 블랭크 마스크에 대한 연구를 진행하고 있습니다.

주요 연구 내용
- 바이너리 블랭크 마스크
- 투과변조 블랭크 마스크
- 위상반전 블랭크 마스크
- 다중 투과율 변조 블랭크 마스크