EASY GUIDE
블랭크마스크가 뭔가요?
한마디로 "사진을 찍기 전의 깨끗한 필름"입니다. 이 필름에 반도체 회로 도면을 새기면 포토마스크가 되고, 그 도면을 빛으로 웨이퍼에 복사해 반도체가 만들어집니다.
블랭크마스크
아직 아무 그림도 없는 깨끗한 원판
포토마스크
회로 도면이 새겨진 "필름 원판"
노광 공정
빛을 비춰 도면을 웨이퍼에 복사
반도체 칩
회로가 완성된 최종 반도체
HOW IT WORKS
블랭크마스크는 어떻게 만들어지나
3층 박막 원판에 회로 패턴을 새겨 포토마스크를 만들고, 그 패턴을 빛으로 웨이퍼에 복사합니다.
01
블랭크마스크 단면
세 겹의 막으로 이루어진 원판입니다.
02
패턴 형성 과정
빛과 화학 공정으로 회로 도면을 새깁니다.
1
노광빛으로 회로 도면을 그립니다
2
현상 · 에칭불필요한 막을 깎아냅니다
3
레지스트 제거감광막을 씻어냅니다
03
웨이퍼에 회로 전사
완성된 포토마스크를 노광장치에 걸고 빛을 비추면, 회로가 웨이퍼에 복사됩니다.
쉬운 용어 풀이노광빛으로 회로를 새기는 공정에칭불필요한 막을 깎아내는 공정레지스트빛에 반응하는 감광막
PRODUCT LINE
두 가지 빛, 두 가지 블랭크마스크
반도체를 더 작게 그리려면 더 짧은 파장의 빛이 필요합니다. 빛의 종류에 따라 마스크의 구조가 달라집니다.
DUV Blank Mask
빛을 투과·차단하는 방식
빛(파장)193nm ArF · 248nm KrF
동작 방식빛을 투과·차단
기판·박막고순도 석영 기판 + 크롬계 박막·위상반전막
적용 분야
메모리 반도체시스템 반도체전력반도체이미지센서
EUV Blank Mask
빛을 반사하는 구조
빛(파장)13.5nm 극자외선 (머리카락 굵기의 약 1/5,000)
동작 방식빛을 반사 (유리·공기를 통과하지 못해 반사 구조로 설계)
기판·박막저열팽창 기판 + Mo/Si 다층 반사막 + 보호막 + 흡수체층
품질 관리나노미터 수준의 결함 제어
적용 분야
AI 반도체고성능 로직차세대 파운드리고집적 메모리
BUSINESS AREA
두 개의 사업 영역
같은 블랭크마스크 기술이 반도체와 디스플레이, 두 산업의 출발점이 됩니다.
IN YOUR LIFE보이지 않는 곳에서
보이지 않는 곳에서
디지털 세상을 만드는 기술
손바닥만 한 6인치 기판 위, 나노미터 단위의 정밀도