空白掩模 · 防尘薄膜 · EUV材料。S&S Tech是以微细化时代的核心材料技术,与全球半导体生态圈共同成长的尖端材料企业。
从空白掩模到EUV材料、R&D — 贯通微细工艺各个阶段的核心材料组合。
光掩模的基础材料。以高平坦·低缺陷薄膜叠层,树立精细图形的标准。
掩模表面的异物保护膜。以高透过·高耐久薄膜,守护良率与运转率。
13.5nm极紫外工艺用新一代材料。引领EUV空白掩模·防尘薄膜技术。
前瞻新一代工艺的材料研发。积累EUV时代的技术领导力。