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公司介绍

以技术与信赖,开创半导体尖端材料的未来。
HISTORY

公司发展历程

自2001年成立以来,凭借持续的技术投入与大胆挑战,我们已成长为 世界顶尖水平的空白掩模企业。

  • 2025
    • EUV中心竣工
    • 获选材料·零部件·装备领军企业
    • 7,000万美元出口塔
  • 2022
    • 设立子公司
  • 2019
    • 开发EUV Blank技术
    • 获选材料·零部件·装备强小企业100
  • 2016
    • 开发EUV防尘薄膜技术
    • 第二工厂竣工
  • 2014
    • 获选世界级300企业
  • 2013
    • 半导体日总统奖
  • 2010
    • 进入High-end空白掩模市场
    • 2,000万美元出口塔
  • 2009
    • 科斯达克(KOSDAQ)上市
  • 2008
    • 1,000万美元出口之塔
    • 获指定为大韩民国十大新技术
  • 2007
    • 获选大邱广域市明星企业
  • 2005
    • 开发显示器用空白掩模
    • 中小企业技术革新大展总统奖
  • 2004
    • SK海力士质量认证
  • 2003
    • 三星电子质量认证
  • 2002
    • 开发半导体用空白掩模
  • 2001
    • S&S Tech成立