EASY GUIDE
什么是空白掩模？
一句话，它就是 "拍照之前的洁净胶片"。在这块胶片上刻上半导体电路图，便成为 光掩模，再用光将该图案复制到晶圆上，半导体便制成了。
空白掩模
尚无任何图案的洁净原版
光掩模
刻有电路图的"胶片原版"
光刻工艺
以光照射，将图案复制到晶圆上
半导体芯片
完成电路的最终半导体
HOW IT WORKS
空白掩模是如何制造的
在三层薄膜原版上刻画电路图案制成光掩模，再用光将该图案复制到晶圆上。
01
空白掩模剖面
由三层膜构成的原版。
02
图案形成过程
通过光与化学工艺刻画电路图。
1
光刻以光绘制电路图
2
显影·蚀刻去除不需要的膜层
3
去除光刻胶洗去感光膜
03
将电路转印至晶圆
将制成的光掩模装入光刻装置并照射光线，电路便复制到晶圆上。
简明术语解释光刻以光刻画电路的工艺蚀刻去除不需要膜层的工艺光刻胶对光反应的感光膜
PRODUCT LINE
两种光，两种空白掩模
要将半导体绘制得更小，就需要更短波长的光。掩模的结构随光的种类而不同。
DUV Blank Mask
透过·遮挡光的方式
光（波长）193nm ArF · 248nm KrF
工作方式透过·遮挡光
基板·薄膜高纯度石英基板 + 铬系薄膜·相移膜
应用领域
存储半导体系统半导体功率半导体图像传感器
EUV Blank Mask
光反射的结构
光（波长）13.5nm 极紫外（约为头发丝粗细的1/5,000）
工作方式反射光（因无法穿透玻璃·空气，采用反射结构设计）
基板·薄膜低热膨胀基板 + Mo/Si 多层反射膜 + 保护膜 + 吸收体层
质量管理纳米级缺陷控制
应用领域
AI半导体高性能逻辑新一代代工高集成存储器
IN YOUR LIFE在看不见的地方
在看不见的地方
构建数字世界的技术
巴掌大的6英寸基板上， 纳米级的精密度