公司介绍

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S&S Tech成立于2001年，旨在率先开发并生产半导体与显示器制造工艺中的核心原材料——空白掩模（Blankmask）。

随着半导体及显示器工艺日趋精细化与高端化，空白掩模的重要性愈发凸显。为引领这一领域，我们通过大胆的研发投入以及专利的申请与注册，专注于高附加值产品的开发。因此，S&S Tech如今已成长为生产世界顶尖水平空白掩模的全球代表性企业。

近年来，在半导体精细工艺中，极紫外(EUV)光刻工艺已成为技术进步的核心。为此，S&S Tech正以确保在EUV工艺材料领域的技术领导地位为目标，集中研发力量，努力提出引领全球半导体产业未来的突破性解决方案。特别是通过开发EUV专用Blankmask与Pellicle，致力于克服精细工艺的高难度，助力客户提升技术竞争力。

今后，S&S Tech不会满足于既有成就。我们将竭尽全力，为国家战略技术的发展作出贡献，并成长为满足全球多样化客户与市场需求的创新型企业。

不仅如此，我们还将与客户、合作伙伴及当地社区共同成长与发展，履行环境、社会与伦理责任，实现可持续经营。

恳请各位继续关注并支持S&S Tech。

谢谢。